케미칼연구소

케미칼연구소

케미칼 연구소는 지난 38년간 반도체, 디스플레이 및 이차전지 분야에 사용되는 Chemical의 합성과 고순도화에 끊임없는 연구를 지속하여 최고의 품질과 경쟁력으로 세계 최상위 고객을 확보하는데 기반을 다져 왔습니다.
앞으로도 환경과 건강을 생각하는 연구를 통해 다양한 기능성 제품과 차세대 품목을 제공해 드릴 계획입니다.

연구 방향

주요 연구 분야

반도체

자체 기술로 개발한 EUV용 Ultra-High Purity Chemical 제품들을 메모리 반도체, 시스템 반도체, AI 반도체 제조 공정에 적용
디스플레이

자체 기술로 개발한 LCD및 OLED 용 High Purity Chemical 제품들을 패널 제조공정에 적용하여 고객사 환경오염 방지 및 원가절감 실현
2차전지

자체 기술로 개발한 고순도 NMP(N-Methyl pyrrolidone)를 2차전지 제조 공정의 분산용매로 사용하여 고객사의 ESG 경영과 원가절감을 실현

주요 연구 성과

반도체

- HBM(High Bandwidth Memory)용 용제 고순도화 - EUV급 반도체 용제 제조 및 고순도화 - 고순도 반도체 용제 제조 및 고순도화 - Inorganic PR용 용제 고순도화 - 반도체용 고순도 세정제
디스플레이

- OLED Mask Cleaner 용제 고순도화 - Display 통합 Thinner 용제 고순도화 - Foldable Device, Solar Cell, 중합 및 기능성 소재용 용제 고순도화
2차전지

- 2차전지용 분산 용제 고순도화
기타

- 전자급 용제 고순도화(DMAc, Heptane 등) - 고순도 재생 Chemical(VAM, MEG, THF 등) - ESG에 부합한 에너지 절감형 재생기술개발화

※ 보유 특허 28건 : 반도체, 디스플레이, 이차전지용 용제 제조 관련 특허

미래에 대한 준비 방향

ESG 경영을 위한 친환경 용매 합성 및 고순도화 기술 개발로 탄소 제로에 도전

반도체 및 2차 전지 분야에 새로운 기능성 제품과 차세대 제품 준비

보유 기술을 고도화하여 세계 최고의 기술로 초격차 달성

연관 인접 사업의 연구 영역 확대

산학연 Open innovation으로 미래 유망기술 지속 확보

연구 성과

반도체/디스플레이용 케미칼 - 차세대 HBM(High Bandwidth Memory) 용제 고순도화 - 반도체용 SOD(Spin On Dielectrics) Thinner 개발 - EUV용 무기 PR 합성 공정 - 저 유전 상수 물질(Low K) 합성

2차전지 - 전고체 분산용매 합성 및 고순도화 - 전고체 바인더 합성 - 전고체 전해질 황화수소(H2S) 억제 기술 - 2차전지 전해액 합성용 초고순도 원료 고순도화

ESG 추구 - 안전/환경영향 물질(Formaldehyde, As etc.) Zero 제품 제조 공정 - 친환경 재생 공정을 탄소 저감 기술로 개발하여 탄소 배출권 확보 - 무기산 고순도화

협력 가능 유망 기술 - 반도체, 디스플레이, 2차전지 관련 합성 및 고순도화 혁신 기술 - 에너지 생산, 저장, 운송에 관한 혁신 기술 - Renewable source 활용 기술 - 잠재력 있는 소재 제조 기술 - 혼합물 고순도화 혁신 기술